11月1日-11月3日
第七届国际碳材料大会暨产业展览会
厦门韫茂科技有限公司
展位号：B037
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企业简介
厦门韫茂科技有限公司成立于2018年，由硅谷海归团队创立，核心成员拥有超20年薄膜沉积工艺及设备开发产业化经验，2021年入选国家级高新技术企业，2022年入选厦门专精特新技术企业，是一家以纳米级薄膜沉积工艺技术为核心的多领域全栈式薄膜沉积方案供应商，为客户提供全方位的技术解决方案以及最先进的纳米材料薄膜沉积装备，针对先进制造国产化的痛点，开发自主设备，实现多个国内装备产品首创设备，填补部分国家高端装备的空缺。
公司荣誉资质：
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产品简介
生产型粉末ALD
KG系列粉末ALD包覆设备主要用于各种粉末材料相关的研究。可实现最大百公斤级的粉末ALD包覆，该系统能够包覆原子层级到纳米层级的范围内的厚度，具有超高灵敏度、均一性和重复性;系统具有较高整体性和稳定性，并具有较高的自动化程度，操作方便、扩展灵活。
GM 研发型粉末ALD
GM系列自动粉末原子层沉积设备可以在微纳米粉末上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长。该系统具有专利粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
碳化硅外延CVD系统
SICE-Y6用于6英寸的SiC外延工艺，可实现P&N型掺杂。反应腔采用水平热壁式设计，内部设有旋转机构，能够形成稳定的气流场；整个反应腔采用感应线圈加热，能够形成均匀的温度场，从而保证优异的工艺指标。
MINI桌式ALD系统
MINI是一款尺寸超小、操作简单、功能强大的桌面式原子层沉积系统，它可以在4寸晶元和微纳米粉末上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域。该系统具有专利粉未样品桶晶元载盘，全自动温控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，是先进能源材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
PEALD
QBT-A 双腔室高真空等离子体ALD系统可在任意曲面，如平面、复杂三维结构、多孔基板上沉积高纯度薄膜,同时它还具有优异的台阶覆盖性，特别适合于微、纳光电子器件、高品质光学和光电子薄膜的制备。
此外，该设备通过等离子体的引入，增强了前驱体物质的反应活性，特别适合于对温度敏感材料和氮化物材料上的薄膜沉积。
厦门韫茂科技有限公司
邀您参加《第七届国际碳材料大会暨产业展览会》
展位号 B037
欢迎各位朋友莅临展位参观交流
11月1日-11月3日 上海跨国采购会展中心
不见不散！
参展&参会报名：
李蕊 13373875075（微信同号）